Silicon VLSI technology : fundamentals, practice, and modeling /

Unique in approach, this book provides an integrated view of silicon technology--with an emphasis on modern computer simulation. It describes not only the manufacturing practice associated with the technologies used in silicon chip fabrication, but also the underlying scientific basis for those tech...

Mô tả chi tiết

Lưu vào:
Hiển thị chi tiết
Tác giả chính: Plummer, James D.
Đồng tác giả: Deal, Michael D., Griffin, Peter B.
Định dạng: Sách
Ngôn ngữ:English
Nhà xuất bản: Upper Saddle River, N.J. : Prentice Hall, 2000.
Tùng thư:Prentice Hall electronics and VLSI series
Chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://dlib.phenikaa-uni.edu.vn/handle/PNK/1842
Từ khóa: Thêm từ khóa
Không có từ khóa, Hãy là người đầu tiên đánh dấu biểu ghi này!
LEADER 01972nam a22003137a 4500
005 20210617153619.0
008 200404s2000 nju|||||||||||||||||eng||
999 |c 2403  |d 2403 
020 |a 0130850373 
040 |a Phenikaa-Uni  |b vie  |c Phenikaa-Uni  |e aacr2 
041 0 |a eng 
044 |a nju 
082 0 4 |2 23  |a 621.39  |b S309-I 2000 
100 1 |a Plummer, James D. 
245 1 0 |a Silicon VLSI technology :  |b fundamentals, practice, and modeling /  |c James D. Plummer, Michael Deal, Peter B. Griffin 
260 |a Upper Saddle River, N.J. :  |b Prentice Hall,  |c 2000. 
300 |a xiv, 817 p. :  |b ill. ;  |c 25 cm. 
490 |a Prentice Hall electronics and VLSI series 
520 3 |a Unique in approach, this book provides an integrated view of silicon technology--with an emphasis on modern computer simulation. It describes not only the manufacturing practice associated with the technologies used in silicon chip fabrication, but also the underlying scientific basis for those technologies. Modern CMOS Technology. Crystal Growth, Wafer Fabrication and Basic Properties of Silicon Wafers. Semiconductor Manufacturing--Clean Rooms, Wafer Cleaning and Gettering. Lithography. Thermal Oxidation and the Si/SiO2 Interface. Dopant Diffusion. Ion Implantation. Thin Film Diffusion. Etching. Backend Technology. For anyone interested in Fabrication Processes. 
650 0 4 |a Integrated circuits  |x Very large scale integration  |x Design and construction 
650 0 4 |a Metal oxide semiconductors 
650 0 4 |a Silicon 
650 0 4 |a Silicon oxide films 
650 0 4 |a Silicon-on-insulator technology 
700 1 |a Deal, Michael D. 
700 1 |a Griffin, Peter B. 
856 |u https://dlib.phenikaa-uni.edu.vn/handle/PNK/1842 
942 |2 ddc  |c SACH 
952 |0 0  |1 0  |2 ddc  |4 0  |6 621_390000000000000_S309I_2000  |7 1  |9 10306  |a PHENIKAA  |b PHENIKAA  |c PNK_105  |d 2020-04-15  |l 0  |o 621.39 S309-I 2000  |p 00017591  |r 2020-04-15  |w 2020-04-15  |x 1 bản đọc tại chỗ  |y SACH  |z Đọc tại chỗ  |x 1 bản đọc tại chỗ