Electromigration in ULSI Interconnections /
Lưu vào:
Tác giả chính: | Tan, Cher Ming, 1959- |
---|---|
Định dạng: | Sách |
Ngôn ngữ: | English |
Nhà xuất bản: |
Singapore ; Hackensack, NJ :
World Scientific,
c2010.
|
Tùng thư: | International series on advances in solid state electronics and technology
|
Chủ đề: | |
Từ khóa: |
Thêm từ khóa
Không có từ khóa, Hãy là người đầu tiên đánh dấu biểu ghi này!
|
Tài liệu tương tự
-
Logic-timing simulation and the degradation delay model /
theo: Bellido, Manuel J., 1964-
Nhà xuất bản: (2006) -
Silicon VLSI technology : fundamentals, practice, and modeling /
theo: Plummer, James D.
Nhà xuất bản: (2000) -
Understanding semiconductor devices /
theo: Dimitrijev, Sima, 1958-
Nhà xuất bản: (2000) -
Large-scale fabrication of decoupling coatings with promising robustness and superhydrophobicity for antifouling, drag reduction, and organic photodegradation
theo: Lei, Xin, và những người khác
Nhà xuất bản: (2023) -
Conquering New Frontiers: The Effect of Vegetation Establishment and Environmental Interactions on the Expansion of Tidal Marsh Systems
theo: Steinigeweg, Charlotte S., và những người khác
Nhà xuất bản: (2023)