Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển
Luận văn giới thiệu về ô xít kim loại bán dẫn và vai trò của chúng trong các thiết bị hiện đại, các phương pháp phổ biến để tổng hợp, chế tạo các màng mỏng ô xít kim loại, đặc biệt là phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển (SALD) có những ưu điểm so với các phương pháp khác. Luậ...
Saved in:
Main Author: | |
---|---|
Other Authors: | |
Format: | Thesis |
Language: | Vietnamese |
Published: |
Phenikaa University
2024
|
Subjects: | |
Online Access: | https://dlib.phenikaa-uni.edu.vn/handle/PNK/10666 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
id |
oai:localhost:PNK-10666 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
oai:localhost:PNK-106662024-08-06T02:19:57Z Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển Nguyên, Thiện Thành Nguyễn, Viết Hương Bán dẫn nano Áp suất khí quyển Phương pháp lắng đọng đơn lớp Luận văn giới thiệu về ô xít kim loại bán dẫn và vai trò của chúng trong các thiết bị hiện đại, các phương pháp phổ biến để tổng hợp, chế tạo các màng mỏng ô xít kim loại, đặc biệt là phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển (SALD) có những ưu điểm so với các phương pháp khác. Luận văn đã đưa ra lý thuyết về các chế độ | tạo màng như CVD, ALD, chế độ lại và ảnh hưởng của các tham số tới quá trình tạo màng (khoảng cách từ đầu phun tới bề mặt đề (dgap), khoảng cách giữa các kênh khí (dsepa), hệ số khuếch tán của tiền chất (D[M], D[0])). Ngoài ra các kết quả thực nghiệm khi chế tạo màng mỏng ô xít thiếc (SnO2) và ô xít kẽm (ZnO) cũng được phân tích bằng các phương pháp khảo sát vật liệu (XRD, UV-Vis,...) và so sánh với các kết quả mô phỏng, lý thuyết 2024-08-06T02:19:57Z 2024-08-06T02:19:57Z 2024 Thesis https://dlib.phenikaa-uni.edu.vn/handle/PNK/10666 vi application/pdf Phenikaa University |
institution |
Digital Phenikaa |
collection |
Digital Phenikaa |
language |
Vietnamese |
topic |
Bán dẫn nano Áp suất khí quyển Phương pháp lắng đọng đơn lớp |
spellingShingle |
Bán dẫn nano Áp suất khí quyển Phương pháp lắng đọng đơn lớp Nguyên, Thiện Thành Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển |
description |
Luận văn giới thiệu về ô xít kim loại bán dẫn và vai trò của chúng trong các thiết bị hiện đại, các phương pháp phổ biến để tổng hợp, chế tạo các màng mỏng ô xít kim loại, đặc biệt là phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển (SALD) có những ưu điểm so với các phương pháp khác. Luận văn đã đưa ra lý thuyết về các chế độ | tạo màng như CVD, ALD, chế độ lại và ảnh hưởng của các tham số tới quá trình tạo màng (khoảng cách từ đầu phun tới bề mặt đề (dgap), khoảng cách giữa các kênh khí (dsepa), hệ số khuếch tán của tiền chất (D[M], D[0])). Ngoài ra các kết quả thực nghiệm khi chế tạo màng mỏng ô xít thiếc (SnO2) và ô xít kẽm (ZnO) cũng được phân tích bằng các phương pháp khảo sát vật liệu (XRD, UV-Vis,...) và so sánh với các kết quả mô phỏng, lý thuyết |
author2 |
Nguyễn, Viết Hương |
author_facet |
Nguyễn, Viết Hương Nguyên, Thiện Thành |
format |
Thesis |
author |
Nguyên, Thiện Thành |
author_sort |
Nguyên, Thiện Thành |
title |
Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển |
title_short |
Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển |
title_full |
Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển |
title_fullStr |
Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển |
title_full_unstemmed |
Phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển |
title_sort |
phát triển màng mỏng bán dẫn nano dựa trên ô xit kim loại sử dụng phương pháp lắng đọng đơn lớp nguyên tử ở áp suất khí quyển |
publisher |
Phenikaa University |
publishDate |
2024 |
url |
https://dlib.phenikaa-uni.edu.vn/handle/PNK/10666 |
_version_ |
1806667404793610240 |
score |
8.8894005 |